金屬薄膜電阻率，金屬薄膜電阻率與它的膜厚關(guān)系

來源：萬利隆電子人氣：發(fā)布時(shí)間：2019-08-01

金屬薄膜電阻采用薄膜技術(shù)生產(chǎn)，金屬薄膜電阻工業(yè)日新月異，在很多技術(shù)難題上都取得一定的突破，研發(fā)金屬薄膜電阻時(shí)候人們發(fā)現(xiàn)金屬薄膜電阻率與它的膜厚存在一定關(guān)系，而且可以通過相關(guān)函數(shù)進(jìn)行計(jì)算。金屬薄膜電阻率對(duì)它的應(yīng)用市場(chǎng)具有非常重要的影響，如果提高電阻率的穩(wěn)定性成文很多電阻研發(fā)的難題，今天我們就來分析一下金屬薄膜電阻率與它的膜厚關(guān)系。

我們知道金屬薄膜電阻率溫度系數(shù)與膜厚存在一定的關(guān)系，與表面散射和晶界散射有關(guān)的電阻率是薄膜厚度與電子平均自由存在一定函數(shù)關(guān)系，由于平均自由隨著電阻率溫度系數(shù)時(shí)，可忽略其他因素的影響，我們只考慮它與溫度的關(guān)系。我們可以從另外一種方法討論連續(xù)金屬薄膜電阻率溫度系數(shù)隨著厚膜的變化關(guān)系，同時(shí)我們考慮表面散射得到的薄膜電阻率，由于薄膜尺寸效應(yīng)而引起電阻率變化，它們之間存在一定關(guān)系。

金屬薄膜電阻生產(chǎn)一般采用金屬膜進(jìn)行制作，金屬薄膜是一種重要的低維材枓，它既在電子學(xué)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛，又是納米材枓領(lǐng)域中的重要研究對(duì)象。金屬薄膜的特征尺寸是其膜厚，由于金屬膜厚的變化，使得金屬薄膜表現(xiàn)出各種異子塊狀金柢材料的物理特性，由此可見金柢薄膜材料的特性隨膜厚的變化非常必要，對(duì)金屬薄膜的主要要求是具有合適的電阻率及其溫度系數(shù).

我們?cè)诮饘俦∧る娮杪蕟栴}進(jìn)行研究得時(shí)候，在較薄膜厚時(shí)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果有較大偏差的事實(shí)，由此可見表面散射和晶界散射必須同時(shí)考慮.薄膜中電子運(yùn)動(dòng)過度出于其有沿膜厚方向的分量，經(jīng)多個(gè)晶粒邊界散射后到達(dá)膜表面發(fā)生表面散射。因?yàn)槟ず癯叽绲南拗撇攀潜∧づc塊狀材料特性不同的起因，所以其中晶界散射要考慮界面與膜面平行的晶界的散射。同時(shí)考慮表而散射和晶界散射，得到的連續(xù)金筏薄膜的電導(dǎo)車公式更符合實(shí)際情況.

金屬薄膜電阻率與金屬薄厚關(guān)系非常重要，對(duì)這些研究可以提高金屬薄膜電阻生產(chǎn)使用率，有效提高金屬薄膜生產(chǎn)技術(shù)，可以為更多金屬薄膜類型得電阻器提供更多解決方案。對(duì)于金屬薄膜技術(shù)電阻器來說，提高電阻率對(duì)整個(gè)產(chǎn)品應(yīng)用市場(chǎng)具有重要研究?jī)r(jià)值，可以讓金屬薄膜電阻應(yīng)用到更多電子產(chǎn)品。

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